티엔에스베큠
TNS-D-2203
11년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 열유체장비 > 전기/소결로
공동활용서비스
2025-04-10
81,745,410원
없음
o 전자소재 부품 소재용 질화물(AIN, Si3N4), 탄화물(SiC), 산화물, 세라믹 나노 분말 등 다층 세라믹 소자 제조 과정에서 세라믹
복합 성형체에 포함된 유기 첨가물/바이더 제거
o 진공 펌핑 작업 후, 질소(N2)/아르곤(Ar) 분위기에서 가열하는 열분해 방식 적용 로(Furnace)
o 진공 펌핑 작업 후, 질소(N2)/아르곤(Ar) 분위기에서 가열하는 열분해 방식 적용 로(Furnace)
o 공정중 오염 방지가 중요시 되고 있어 해당 장비를 통해 개선 가능
o 소결 장비와 연계활용하여 설계 및 해석이 가능하여 연구 환경 개선에 적합
o 해당 장비를 사용함으로써 모든 구간에서 온도 균일성을 맞추어 공정 개선에 적합
- Main Body With Muffle
- Heating Element & Insulation
- Temperature Controls With Power Supply
- Evacuation Devices
- Gas System
- Water Cooling System
직접사용
고정형
시간별
[Hr] 100,000원
o 본 장비는 세라믹 성형체를 N2, Ar 분위기에서 탈지하는 장비로 SiC, B4C 등 비산화물 세라믹을 열처리하는 탈지로(De
waxing Furnace)
o 탈지로는 크게 진공챔버, 단열재, 히터, 진공배기 장치, Binder Capture 장치, 불활성 가스 공급 및 배기장치, 시스템
제어장치, 냉각수 공급장치, 전력공급장치 등으로 구성
o 구성
- Main Body With Muffle
- Heating Element & Insulation
- Temperature Controls With Power Supply
- Evacuation Devices
- Gas System
- Water Cooling System
o 규격
- 내부규격 : Ø1000 * 1000L mm (수냉이중벽 구조 SUS 310 Muffle)
- 사용규격 : W600 * D600 * H600 mm
- 설치면적 : W3000 * D2500 * H2200 mm
- 진 공 도 : 5.0 * 10⁻²Torr ROTARY PUMP
- 최고온도 : 1,000℃
- 사용온도 : 900℃, ± 10도 이내(Rate 5℃/Min)
- 발 열 체 : SiC Heater or Khantal wire Heater
- 사용가스 : Ar, N2
- 사용전원 : 380V, 3상, 70kVA
- 칠러 : 수냉식 일체형 / 사용온도 5 ~ 25 ℃