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차세대 이차전지 소재의 투과전자현미경 분석법에 사용되는 홀더의 클리닝 역할을 하는 기반 장비
투과전자현미경(TEM) 시편의 유기물 특히 탄소 오염층 또는 먼지 등을 제거하는 목적으로 사용.
1. Plasma source
(1) Certified RF inductively Coupled (Downstream plasma source or sputtering source

2. Plasma chamber
(1) 7“x7”
(2) ** View chamber : glass or similar material
(3) ** Bulky sample loading and Topside opening and closing

3. TEM Holder sleeve ports
: 3ports
4. RF Power
- low power : 10-99W

5. Turbo pump
: 5E-6Torr
6. Gas flow control
: Needle valve or MFC
7. ICP Tube material
: one among QUARTZ, Al2O3, Saphaire and Sapphal

8. Cleaning speed
: 1.5nm/min at 50 watts or better

9. Cleaning uniformity
: 1m3 or larger

10. Function for Insitu holder

11. Mobility function

12. Touchscreen size
: 7inch or bigger

13. Instrument sequence
: On&Off/Vent toggle switch

투과전자현미경을 사용하기 전 반드시 거쳐야 하는 전처리 장비이기 때문에 기본적으로 사용량이 많고,
사용 시간이 길어 거의 대부분의 시간에 구동해야 하는 장비임.
배터리 소재 연구 뿐 아니라 투과전자현미경을 이용해 분석하는 모든 소재 샘플에 대해 다양한 활용이 가능함.