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장비정보

제작사
FEI
모델 명
Helios 5 UX

내용연수
10년
구분
주장비

용도
분석
표준 분류
광학·전자 영상장비 > 현미경 > 주사전자현미경

장비활용범위
공동활용서비스
취득일
2024-12-23

취득금액
1,618,742,144원
인증정보
없음
기능
가속된 이온빔을 극저온으로 냉각시켜 시료 표면에 주사하여 관찰 및 가공을 하는 장비로 시료의 성분 미세구조, 결정학적
특성 분석
장비 상세설명
극저온 주사전자 현미경 시스템은 마이크로 결정에 대한 고분해능 Micro ED 용으로 얇은 전자-투과 라멜라(lamella)를 준비하기 위한 것으로 상기 장비를 이용하여 전고체전지와 같은 차세대 이차전지에 이용되는 전극, 전해질 소재의 고도분석에 필요합니다. 투과전자현미경으로 민감소재 분석을 위한 극저온 시스템이 필요함과 동시에, 대기 비개방 조건에서 극저온 시료를 준비하여 극저온 투과전자현미경 분석법을 이용하여 산화/빔 손상에 취약한 모든 샘플에 대해서도 극저온으로 냉각하여 관찰할 수 있도록 지원하기 때문에, 배터리 연구 뿐 아니라 다양한 연구 활용 또한 가능합니다.
마지막으로 Automation TEM sampling SW가 탑재되어 있으며, 자동으로 TEM sampling을 진행할 수 있게 되어 인력부족으로 인한 대응문제가 생기는 경우를 SW로 대체할 수 있습니다.

이용안내

사용형태
직접사용

설치형태
고정형
사용료 형태
시간별

장비 사용료
[Hr] 146,160원

장비설명

극저온 주사전자 현미경 시스템은 마이크로 결정에 대한 고분해능 Micro ED 용으로 얇은 전자-투과 라멜라(lamella)를 준비하기 위한 것으로 대기 비개방 조건에서 극저온 시료를 준비하여 극저온 투과전자현미경 분석법을 이용하여 산화/빔 손상에 취약한 모든 샘플에 대해서도 극저온으로 냉각하여 관찰할 수 있도록 지원합니다. 그리고 sample의 3차원 가공 및 구조 성분의 입체적 분석 및 3D EDS 이용하여 재료의 미세조직, 집합 조직의 분석도 가능합니다. 더불어 Automation TEM sampling SW가 탑재되어 있으며, 자동으로 TEM sampling을 진행할 수 있습니다.

장비 구성 및 성능

1. Electron optics
(1) Electron Beam Resolution - 0.6 nm at 15 KV /- 0.7 nm at 1 KV
2. Ion optics
(1) Ion Source : Ga+ Liquid Metal Ion Source (2) Resolution : 2.5 nm at 30 KV
3. Detectors : (1) Retractable solid state backscatter detector
4. Specimen Stage : (1) Fully motorized stage : X, Y, R Piezo goniometer stage
5. Scanning System : (1) Resolution : up to 4096 x 3072
6. Embedded SW controlled sample lift out manipulator system and rotation
(1) Smallest step size : 80 nm
7. Operation hardware : (1) Workstation PC with Windows 10 OS
8. Operation Software
(1) Acquisition of multiple images with independent settings such as resolution, dwell, FOB, detector,
kV for each slice
9. Energy Dispersive Spectrometer (EDS) : (1) Silicon Drift Detector: LN2free
10 .Vacuum System : (1) Include scroll pump, turbo pump, ion getter pump
11 Accessories : (1) Acoustic Enclosure for Pre-vacuum Pump

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