HORIBA

없음

PV전지, PVD/CVD 코팅, 페인트, 아연도금, 수지, 산화물, 세라믹, 반도체, 유리가 포함된 시료의 나노미터 분해능 깊이 프로파일 및 표면 분석이 가능함. 모노크로메터 추가 장착이 가능하며 이를 통한 전체 파장 스캐닝 기능이 가능함.
Spectrometer의 경우 광학 장치는 Paschen-Runge mounte을 사용하며 초점 거리는 0.5m, 회절 격자는 2400gr/mm double order ion-etching된 홀로 그래픽 그레이팅을 사용한다. GD 소스에서 방출된 빛을 수집하고 광섬유 사용 없이 분광계로 직접 전송함. 분석원소는 H, Li, C, N, O, Na, Mg, Al, Si, P, S, K, Ca, Ti, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Mo, Sn 이며 검출기 개수는 23개임. Pulsed RF, RF 기능이 가능하여 Synchronised acquisition 모드로 열에 민감하고 깨지기 쉬운 재료에 대해 MS 속도로 펄스 가능함. Glow Discharge Lamp(GDL)는 표준 Anode 4mm를 사용하며 1, 2, 7, 10 mm의 anode로 교체하여 분석이 가능함. 유기 물질의 빠른 스퍼터링을 위한 ArO, NeO의 사용(UFS) 기능이 가능함. 측정 중 분석 시간을 연장할 수 있는 Time Plus 기능 내장되어 있음. HDD 디텍션 기능 내장되어 있음. (HDD는 표면 분석 및 IMAGE 획득을 위해 각 검출기의 동적 범위를 5 x로 확장, 신호 강도를 실시간으로 자동 조정 함으로써 고농도를 분석할 때 검출기의 포화를 제거하고 낮은 농도에 대해 최적의 감도로 조정하는 기능)

본 장비는 펄스 라디오 주파수 글로우 방전 소스를 이용하여 전도성 및 비전도성 샘플의 표면 및 깊이 프로파일 분석이 가능한 장비이다. 글로우 방전 영역의 음극 스퍼터링을 이용하여, 도전성비 도전성막을 스퍼터링, 스패터된 원자의 Ar플라스마 내 발광을 분광 측정한다. PV전지, PVD/CVD 코팅, 페인트, 아연도금, 수지, 산화물, 세라믹, 반도체, 유리의 표면 분석이 가능하다.
기준 시편을 토대로 나노미터 분해능 깊이 프로파일이 가능한 장비이다. 다층 도금 시료의 정성 및 정량 분석이 가능하다.
다른 표면분석법에 비해 재현성이 좋고, 폭깊은 분해능으로 분석이 가능하다. H 등 가벼운 원소의 분석이 가능하다.