KP Technology
APS04
11년
주장비
분석
화합물 전처리·분석장비 > 분광분석장비 > 달리 분류되지 않는 분광분석장비
공동활용서비스
2024-11-11
422,702,100원
없음
○ 디스플레이 소재의 물리적 특성 분석
- 광전자 분광법을 이용한 디스플레이 소재의 절대값 일함수 측정
- 디스플레이 소재의 Density of States(DOS) 및 HOMO energy level 측정
- kelvin probe를 이용한 일함수의 상대값 측정
- 디스플레이 소재 박막의 표면 광 전압 측정 및 LUMO energy level 측정
- 박막 표면의 결함 분석
○ 디스플레이 소재 산업 육성을 위한 소재합성 및 분석 지원
- 기반구축센터의 합성공정 지원에 따라 개발된 소재의 물리적 특성 분석
- 디스플레이 소재 외에도 이차전지 소재 및 센서 소재 등 다양한 반도체 소재의 물리적 특성 분석 가능
해당 장비는 Air photoemission system을 이용한 금속 및 전도성 화합물의 일함수를 분석하는 장비로, 소재의 에너지레벨을 분석하는데 필수적인 장비임.
- Photoelectric effect를 이용하여 개발된 소재의 일함수 측정(진공 필요 없음)
- 공기 중에서 일함수를 측정할 수 있는 air photoemission system과 시간과 위치에 따른 일함수 변화를 측정하는 Kelvin Probe로 구성됨
- 이온화 전위 측정 가능
- 상태밀도(Density of states) 정보제공
1. System
1) Kelvin probe 3-axis scanning
2) Surface Photovoltage
3) Surface Photovoltage Spectroscopy
4) Tip material / diameter
Standard 2 mm Au plated tip
5) CPD resolution
1 - 3 meV
6) Height control (auto)
0.05eV
7) Height control (auto)
25 mm automatic
8) Kelvin probe mode and PE mode
CPD and photoemission measurements
9) CPD measurement time
CPD measurements in <1 minute
10) WF measurement time
PE measurements in <5 minutes
11) Optical system
Colour camera with zoom and monitor
12) for positioning
13) Oscilloscope
Digital TFT oscilloscope for real time signal
14) Test sample
Au/Al and Ag Reference sample/ Au/Al,
Silicon Solar Cell
기관의뢰 직접사용
고정형
건별
[EA] 50,000원
해당 장비는 Air photoemission system을 이용한 금속 및 전도성 화합물의 일함수를 분석하는 장비로, 소재의 에너지레벨을 분석하는데 필수적인 장비임.
- Photoelectric effect를 이용하여 개발된 소재의 일함수 측정(진공 필요 없음)
- 공기 중에서 일함수를 측정할 수 있는 air photoemission system과 시간과 위치에 따른 일함수 변화를 측정하는 Kelvin Probe로 구성됨
- 이온화 전위 측정 가능
- 상태밀도(Density of states) 정보제공
- Measurement Principle : Photoelectric Effect
- Energy Range : 3.4 - 7 eV
- Repeatability Precision : 0.05 eV
- Measuring Time : 180 seconds (1 sec dwell time per nm)
- Ultraviolet Source : Deuterium Lamp
- UV Spot Area : 4.5 x 6 mm (elliptical)
- Spectrometer : Nitrogen Substitution Diffraction Grating
- Operating Conditions : Atmospheric Conditions and variable RH/N2