SPM
TEL Mark-VZ
9년
주장비
시험
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 트랙장비
2024-06-05
390,800,000원
없음
○ 본장비는 웨이퍼에 감광액을 도포하여 노광을 할 수 있게 하고 노광 된 웨이퍼에 현상액을 도포하여 웨이퍼의 패턴을 형성 시키는 반도체 포토 공정 장비에 적용
- 본 장비는 TEL_MARK-V 장비를 LED 제조 공정에 맞게 Refurbish한 장비
- 웨이퍼에 감광액을 균일하게 도포하고, 노광 공정 후 웨이퍼에 현상액을 이용하여 웨이퍼에 패턴을 형성시키는 반도체 패턴 형성 공정 장비
- 서브마이크로의 미세 패턴을 형성할 수 있도록 고균일한 감광액 도포 및 현상을 할 수 있는 공정 장비
기관의뢰
고정형
건별
[EA] 20,000원
- 본 장비는 TEL_MARK-V 장비를 LED 제조 공정에 맞게 Refurbish한 장비
- 웨이퍼에 감광액을 균일하게 도포하고, 노광 공정 후 웨이퍼에 현상액을 이용하여 웨이퍼에 패턴을 형성시키는 반도체 패턴 형성 공정 장비
- 서브마이크로의 미세 패턴을 형성할 수 있도록 고균일한 감광액 도포 및 현상을 할 수 있는 공정 장비
○ 장비 주요 성능
- Temperature AD Plate : 50 ~120 : R≤1.0 , 120~ 150 : R≤ 1.5, 150~180 : R≤ 2.5
- Temperature Cool Plate : 15 ~30 : R≤0.5
- Temperature Hot Plate : 50 ~120 : R≤1.0 , 120~ 150 : R≤ 1.5, 150~180 : R≤ 2.5
- Back Rinse Nozzle with flowmeter : Flowmeter Scale: 150ml/min
- Solvent Nozzle with flowmeter : Flowmeter Scale: 150ml/min
- P/R Temp : 18~28 ℃ ± R≤ 1℃
- Coating Unifomity : Within wafer range ≤ 0.5 ㎛
- DEV CD Uniformity : Within wafer range ≤ 0.5 ㎛
- DEV Temp : 18~28 ℃ ± R≤ 1.0 ℃
- Particle : ≤ 0.3㎛ 10EA(웨이퍼 1매 내)
- Rinse nozzle with flowmeter and sensor / per DEV unit : Flow meter scale: 3L/min
- Back rinse nozzle with flowmeter and sensor / per DEV unit : flow meter scale: 150ml/min
- Solvent Nozzle Filter/ Solvent filter
- Solvent Chemical Supply System : Maual Tank with Empty sensor