마이다스
MLW100
10년
주장비
계측
광학·전자 영상장비 > 광파발생/측정장비 > 달리 분류되지 않는 광파발생/측정장비
2024-02-02
135,000,000원
없음
Photolithography 공정에서 포트마스크 없이 레이저를 이용하여 사용자가 설계한 패턴을 기판에 구현
별도 포토마스크 구매없이 CAD에서의 레이아웃을 바로 wafer에 전사시킬 수 있어 학생 설계 및 공정 교육에 매우 적합
기관의뢰
고정형
시간별
[Hr] 200,000원
- 해당 장비는 별도의 포토 마스크 없이 CAD 파일을 통해 기판에 패턴을 전사 시킬 수 있는 장비임
- 최소 0.6μm 크기의 패턴을 기판에 전사 시킬 수 있으며 패턴의 복잡도에 따라 Critical Dimension을 변경 할 수 있는 장점이 있음
- 이 장비의 핵심 성능은 반도체 공정 실습에 충분하며, 대학 연구로도 활용성이 높은 성능임
- Minimum Critical Dimension: 0.6μm
- Laser wavelength: 405nm, GaN laser diode
- Substrate size: up to 125x125mm
- Exposable area: up to 100x100mm (4” wafer)
- Dimensions: 580 x 708 x 600(mm)