ULVAC-PHI, INC.
PHI GENESIS
10년
주장비
분석
화합물전처리/분석장비 > 분광분석장비 > 광전자분광기
공동활용서비스
2026-03-09
968,504,800원
없음
◦인조흑연의 원료, 중간체, 완제품을 구성하는 원소의 정성/정량을 평가하고, 결합구조를 분석하기 위한 장비
◦엑스선 광전자 분광기는 인조흑연 제조 공정 중의 중간체(피치, 코크스, 성형블록, 탄소블록 등) 및 제조된 인조흑연의 원소 특성을 평가하기 위한 장비
◦X선을 광원으로 사용하며, X선이 조사된 시료의 표면에서 방출되는 광전자의 운동에너지를 수집하여 결합에너지를 측정하고, 이를 통하여 원소의 정성/정량을 분석 및 결합 구조를 분석하는 장비로 인조흑연의 표면 특성 분석에 활용
기관의뢰
고정형
건별
[EA] 100,000원
◦고품질 인조흑연 및 중간체의 표면 특성을 평가하기 위한 분석 장비
◦인조흑연 제조 공정의 최적화를 위해서는 특정 공정 후의 인조흑연의 표면 특성 분석이 필요하며, 이를 통하여 공정 최적화를 유도할 수 있는 장비
◦원소의 정성/정량 분석, 결합 구조 및 함량 분석 가능
○ X-ray Source 유형 : Micro-focused monochromatic x-ray beam
○ X-ray beam size : 10~200㎛ 이상
○ Charge compensation : Dual b◦단색광 조합 주사형 엑스선 발생 장치
◦소스 타입 : Micro-focussed X-ray source or equivalent
◦엑스레이 타켓 타입 : Al anode
◦최소 빔 사이즈 (Min. Beam size) : 15μm
◦최대 분석 영역 (Max. analysis area) : 700 × 300μm
◦최대 파워 (Max. Power) : 100W
◦XPS Energy resolution on Ag sample : 0.50 eV
◦전자에너지 분석기와 감지기 : SCA (Spherical Capacitor Analyzer)
◦Detector : 128 channel
◦중화장치 : Dual beam low energy electron/ ion source
◦전자동 시료 장착대 및 및 시료 파킹 스테이지
◦Axis : X, Y, Z, T, R
◦Sample parking : 3 ea
◦Max. Beam Voltage: 4 kVeam (electron, Ar ion)
○ Specimen Plate : 40x40 mm 이상
○ Heating option : 600℃ 이상