RENA
COMPASS SRD
12년
주장비
기타
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 건조시스템
2024-01-05
94,100,000원
없음
• Wafer Size : 6 ~ 8 inch
• DI nozzle : 10
• 회전 속도 : 0-2800 RPM
• 10.4“ Color touch-screen
• Auto-Rinse cycle
• USB back up
- 6~8인치 웨이퍼 대응
- 회전 속도 : 0 – 2800 RPM
- 잔여 유기물 및 DI 제거
- N2 Blowing
- N2 heater와 온도 모니터링 가능
기관의뢰
고정형
건별
[EA] 30,000원
- 웨이퍼 회전 세정 건조기는 MEMS와 반도체 공정 분야에서 Si wafer, glass 등과 같은 소재의 DI 세정 및 건조 용도로 사용되는 필수 장비임
- 일반적으로 타 공정 장비에서 상기 소재들을 Chemical wet 공정 진행한 후 소재 표면의 잔류 Chemical, DI water를 장비 내에서 DI를 분사시킴으로써 불순물이나 기타 오염을 제거하고 따뜻한 질소를 이용하여 건조시키는 장비임
• Wafer Size : 6 ~ 8 inch
• DI nozzle : 10
• 회전 속도 : 0-2800 RPM
• 10.4“ Color touch-screen
• Auto-Rinse cycle
• USB back up