(주) 넥서스비
nexus mini
12년
주장비
시험
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 원자층증착장비
2023-10-18
173,617,200원
없음
본 장비는 플라즈마를 이용한 원자층 증착 장비로써 원자 단위의 초박막 공정이 가능함
본 장비는 thermal 원자층 증착 장비에 plasma 모듈이 추가된 구성으로 plasma 방식과 thermal 방식을 모두 사용할 수 있음. 이를 통해 산화물의 특성에 따라 적합한 방식 선택이 가능함.
소스 프리커서 3개(Bubbler Type), 리엑턴트 3개(1 Self Evaporation Type + 2 External Gas Reactant)로 구성하여 다양한 산화물 증착이 가능함.
직접사용
고정형
건별
[EA] 300,000원
기존 연구장비인 sputter, spin coater와 비교했을 때, 원자층 단위의 순차적인 반응가스 투입 및 잔류물 제거 과정을 거치는 원자층 증착 장비는 수십 나노미터의 정밀한 두께를 조절하고 증착 균일성을 유지함에 있어 분명한 차별성이 존재함.
또한, 기존 증착장비의 경우 증착 균일성의 문제로 gate insulator (GI) 증착이 불가능했지만 원자층 증착 장비를 구축함으로서 고-균일성의 GI 증착을 가능케하고, 이를 통해 top gate 구조의 TFT 구현이 가능해짐으로써 보다 새롭고 다양한 transistor 연구가 가능함
기저압력: 5mTorr 이하, 제어 정밀도: 2% of setpoint 이하
플라즈마 주파수: 13.56 MHz, 플라즈마 파워: 600kW
Cycle time: 10초 이하, Growth per cycle: 1.2Å/Cycle
Deposition rate: 10Å/min (Ref, Al2O3)
오존 제너레이터: 220g/m2
스크러버: 100 LPM