Samco
RIE-200NL
9년
주장비
분석
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 식각장비
2023-12-06
385,000,000원
없음
- 반응실챔버, 반송챔버가 구성되어 있어 프로세스 챔버의 분위기 가스가 엔지니어에게 노출되지 않아 안전성 확보
- 전국구조는 평행판, 음극결합구조이며, 상부전극, 하부전극 구조로 되어있음
- 사용가능한 가스는 Cl2, SF6, O2, C2F6, Ar으로 구성되어 있음.
- RF Generator는 최대 500W까지 가능하여 다양한 식각 레시피 구성이 가능.
반도체의 각 레벨에서(Wafer, Chip, Package등) 내부 구조 및 불량분석을 위한 Top-Side Layer를 식각하기 위해 선택적 식각이 용이하도록 다양한 Gas를 사용하는 Plasma 건식 식각 장비
기관의뢰
고정형
시간별
[Hr] 82,000원
반도체의 각 레벨에서(Wafer, Chip, Package등) 내부 구조 및 불량분석을 위한 Top-Side Layer를 식각하기 위해 선택적 식각이 용이하도록 다양한 Gas를 사용하는 Plasma 건식 식각 장비
1. 반응실 챔버
1) 알루미늄, 400mm(가로) x 400mm(세로) x 209mm(높이)
2) 내경 ∅340mm, ∅37mm 뷰포트 x 1
2. 반송 챔버
1) 알루미늄, 340(가로)×445(세로)×144(높이)mm
2) ∅204mm 뷰 포트 ×1
3. 전극 구조
1) 평행판, 음극 결합
2) 전극간 55mm 고정간격
3) 상부 전극 : 스테인레스 스틸, ∅240mm
4) 하부 전극 : 스테인레스 스틸, ∅240mm
4. 하부 전극 온도 조절 : 수냉식
5. 가스 흡입구 : 샤워 헤드형
사용 가스 : Cl2, SF6, O2, C2F6
6. RF 전원공급 장치 : 13.56MHz, 최대 500(와트)
7. 설비 전원 : 220볼트, 3상 50암페어
8. 진공 라인
1) 반응실 챔버 : 건식 펌프 ( 500 리터/분 )
2) 반송 챔버 : 건식 펌프 ( 500 리터/분 )