코리아바큠테크㈜
Co-Sputtering System
5년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 스퍼터
2023-10-30
121,121,240원
없음
- 메인 챔버(chamber)에 기판을 위치하고, 아르곤 (Ar) 가스를 주입하여 플라즈마를 형성.
- 형성된 플라즈마로 Ar 이 아이온화 되고 이를 마그네트론으로 금속유전체 표면에 끌어당겨 momentum transfer를 이용하여 타깃 특정 물질을 기판 표면위에 박막으로 증착하는 장비
- 다양한 금속박막 및 유전체박막을 증착할 수 있는 장비로써 다양한 마이크로 / 나노 시스템 구현에 사용되는 장비임
- 반도체 공정에서 전극용으로 사용되는 Cu, ITO, IZO, 금속 등의 Target을 DC를 이용하여 증착하고, Substrate위에 전극을 형성 할 시에는 기판과 박막간의 계면특성이 박막 접착력 향상을 위해 Plasma Treatment Chamber를 이용하여 표면처리.
- 유연체 (dielectric) 소재 표면 처리를 위하여 RF power source를 이용하여 증착
- 본 구매 품목은 반도체 및 디스플레이 소자 제작 시 필요한 핵심 공정 장비 중 하나임
- 스퍼터의 기본원리 및 특징은 고진공에서 Ar 및 O2 플라즈마를 통해 높은 에너지의 입자를 생성하여 그 입자를 증착하고자 하는 타겟의 표면에 충돌시키고 그 충격으로 분리된 타겟의 원자를 기판 위에 증착시킴
- 특히, 단시간 내 고진공 조건에서 균일한 박막 증착과 정밀한 두께 제어 (nm 단위의 두께 제어)가 가능하여 고 융점 금속, 합금 및 화합물의 반복적인 박막형성에 유리한 특성
기관의뢰
고정형
건별
[EA] 200,000원
- 반도체 공정에서 전극용으로 사용되는 Cu, ITO, IZO, 금속 등의 Target을 DC를 이용하여 증착하고, Substrate위에 전극을 형성 할 시에는 기판과 박막간의 계면특성이 박막 접착력 향상을 위해 Plasma Treatment Chamber를 이용하여 표면처리.
- 유연체 (dielectric) 소재 표면 처리를 위하여 RF power source를 이용하여 증착
- 다양한 금속박막 및 유전체박막을 증착할 수 있는 장비로써 다양한 마이크로 / 나노 시스템 구현에 사용되는 장비임
- surface acoustic wave sensor, piezoelectric energy harvesting 및 센서, 광학센서, 전기화학식 센서 등 다양한 종류의 센서 연구개발이 가능