마이다스시스템
MDA-600LJ
4년
주장비
생산
광학·전자 영상장비 > 광파발생/측정장비 > 달리 분류되지 않는 광파발생/측정장비
2020-09-21
53,350,000원
1) Light Source Module
2) Microscope Module
3) Stage and Controller Module
4) Accessories
- mask holder 1ea
- vacuum chuck 1ea
- vacuum pump 1ea
1) 장비의 용도
- Photo Lithography 공정을 수행하는 시스템으로서 감광막에 자외선(UV)을 직접 조사하여 반응 Wafer 및
기타 Substrate 위의 다양한 물질에 Pattern을 형성시키는 것을 목적으로 한다.
- 옵션으로, Nanoimprint kit 를 추가하면 나노 패턴 스탬프로 고해상도 패턴 구현이 가능하다
기관의뢰
고정형
기타
100,000원
1) 장비의 용도
- Photo Lithography 공정을 수행하는 시스템으로서 감광막에 자외선(UV)을 직접 조사하여 반응 Wafer 및
기타 Substrate 위의 다양한 물질에 Pattern을 형성시키는 것을 목적으로 한다.
- 옵션으로, Nanoimprint kit 를 추가하면 나노 패턴 스탬프로 고해상도 패턴 구현이 가능하다
- Light source module
- Lamptype : UVLED
- Wavelength : 365NM(전용)
- Beam Uniformity : ≤±3%
- Microscope
- Objective spacing : 60 ~ 100mm
- Move range : Y Axis ± 15 mm
- Magnification(Scope) : 1.4x~9x
- Stage and controller module
- Exposure Timer : 0.1 sec to 999.9 Hour
- Contact mode : Vacuum, Hard, Soft Contact
Vacuum & Hard contact (Force controllable)