Bruker
ContourX-500
10년
주장비
시험
광학·전자 영상장비 > 광파발생/측정장비 > 간섭계
2024-06-20
263,856,190원
없음
1. OLED 공정개발을 위한 평가 지원
- OLED TFT 소자, 증착박막 표면형상 및 roughness 측정
- OLED 패널의 형상오차, 나노단위 성능평가, 소재·부품에 대한 표면형상 및 거칠기 측정, 3D 측정
2. 디스플레이 및 반도체 기계부품 산업 기업지원
- 미세 표면 형상을 측정 및 각종 정밀 표면측정
- 초정밀 부품의 표면 조도 측정, 광학금형 application Film Roughness
- Glass 또는 Wafer의 Roughness 측정 및 비구면 렌즈 또는 각종 금형의 Roughness 측정
비접촉 표면조도 측정기(간섭계)는 백색광주사간섭계 원리를 이용하여 백색광을 시료에 조사하고 시료의 높낮이 차이에 의한 간섭신호가 분리되면 이를 분석하여 표면형상 및 거칠기, 패턴의 높이, 막두께를 측정하는 장비이다.
기관의뢰 직접사용
고정형
시간별
[Hr] 100,000원
비접촉 표면조도 측정기(간섭계)는 백색광주사간섭계 원리를 이용하여 백색광을 시료에 조사하고 시료의 높낮이 차이에 의한 간섭신호가 분리되면 이를 분석하여 표면형상 및 거칠기, 패턴의 높이, 막두께를 측정하는 장비이다.
1. Core technology & Basic performance specifications
1) The instrument’s core technology must be based on optical interferometric techniques.
2) specification
- Vertical resolution : < 0.08 nm
- RMS Repeatability : < 0.01 nm
- 1 sigma Step Height Repeatability must be < 0.1%
- Max Vertical Measurement Range: 10 mm or more
- Stitching, Advance High Speed Autofocus, High Speed measure
- Scan speed : 37um/sec or more
- 4 Position Turret or more
2. Camera
1) Camera : 1.9 MP or more
2) Camera resolution : 1200 x 1000 data array or more
3. FOV Lens and Objective lens
1) field-of-view lens(FOV) : 2X, 1X, 0.55X or 0.75X
2) objective lens : 10X, 20X, 50X, 100X or 115X
4. Sample stage
1) XY stage range : encoded stage 150 mm range or more
2) XY stage resolution : 0.5 um or less
3) Z range : 100mm or more
5. Software
1) The metrology instrument must include a range of analysis algorithms, each designed to offer the
most accurate surface roughness values for a wide variety of specific surface types. These analyses must be software selectable and should be able to be saved in recipes for easy recall.
- For rough surfaces with a large Z-range – USI or VSI (Vertical Scanning Interferometry)
- For smooth surfaces with a Ra value less than 150nm - PSI (Phase Shifting Interferometry)
- For measuring film thickness - Thin and Thick Film Analysis to calculate thickness of transparent and
semi-transparent coatings from 100 nm to 200 um.
2) Stitching
3) System must be able to perform Autofocus