(주)썸백
KBH-CVDR-23
10년
주장비
생산
기계가공/시험장비 > 열유체장비 > 달리 분류되지 않는 열유체장비
공동활용서비스
2024-12-09
1,279,135,329원
없음
- 흑연의 성능 향상을 위한 표면코팅에 활용
- MTS 가스를 이용하여 별도의 탄화수소 없이 흑연 블록 표면에 SiC 코팅 가능
- 온도 및 시간을 조절을 통한 인조흑연의 표면에 코팅된 SiC의 두께 조절 가능
◦ 인조흑연 표면처리장치는 인조흑연의 고온 산화를 방지하여 반도체 부품으로 적용하기 위하여 필요한 장비임
- 인조흑연은 높은 열안정성 및 고온 강도, 낮은 고온 열팽창성을 가지고 있어 다양한 산업에 활용되고 있으나 탄소로 구성되어 500℃ 이상의 온도에서 산소에 노출될 경우 격렬한 산화반응이 일어남
- 인조흑연의 우수한 열적 특성을 활용하기 위해서는 고온 산화성이 낮은 물질을 인조흑연 표면에 코팅하여 고온에서 산화되는 것을 방지할 필요가 있음
- 표면처리를 통하여 인조흑연과 산소의 접촉을 방지할 경우 불활성 분위기뿐만 아니라 산소 분위기에서 인조흑연을 활용할 수 있음
- 반도체 공정용 부품에 적용되는 인조흑연 도가니의 시험 생산 지원을 위한 표면처리 공정에 활용
- 인조흑연 블록의 활용도 향상을 위하여 인조흑연 표면에 산소와 반응하지 않는 물질을 코팅, 인조흑연 블록의 성능 최적화를 위한 소재개발 연구 및 시험 생산 공정에 활용
- 주입가스의 양 및 온도 조절을 통하여 인조흑연 표면 코팅층 조절 가능
- 다축회전을 통하여 코팅층의 균일성 향상 가능
- 인조흑연 블록을 추가할 수 있는 반응기 크기로 내부 조절을 통해 대량의 인조흑연을 동시에 표면처리 할 수 있음
- 공정 중 발생한 가스 제거를 위하여 필터 및 burn-out 점화기를 통하여 대부분의 가스 폐기물 제거
- 진공을 통한 반응가스 제거 및 사용자의 안전 보장
기관의뢰 직접사용
고정형
시간별
[Hr] 134,000원
◦ 인조흑연 표면처리장치는 인조흑연의 고온 산화를 방지하여 반도체 부품으로 적용하기 위하여 필요한 장비임
- 인조흑연은 높은 열안정성 및 고온 강도, 낮은 고온 열팽창성을 가지고 있어 다양한 산업에 활용되고 있으나 탄소로 구성되어 500℃ 이상의 온도에서 산소에 노출될 경우 격렬한 산화반응이 일어남
- 인조흑연의 우수한 열적 특성을 활용하기 위해서는 고온 산화성이 낮은 물질을 인조흑연 표면에 코팅하여 고온에서 산화되는 것을 방지할 필요가 있음
- 표면처리를 통하여 인조흑연과 산소의 접촉을 방지할 경우 불활성 분위기뿐만 아니라 산소 분위기에서 인조흑연을 활용할 수 있음
- 반도체 공정용 부품에 적용되는 인조흑연 도가니의 시험 생산 지원을 위한 표면처리 공정에 활용
- 인조흑연 블록의 활용도 향상을 위하여 인조흑연 표면에 산소와 반응하지 않는 물질을 코팅, 인조흑연 블록의 성능 최적화를 위한 소재개발 연구 및 시험 생산 공정에 활용
- 주입가스의 양 및 온도 조절을 통하여 인조흑연 표면 코팅층 조절 가능
- 다축회전을 통하여 코팅층의 균일성 향상 가능
- 인조흑연 블록을 추가할 수 있는 반응기 크기로 내부 조절을 통해 대량의 인조흑연을 동시에 표면처리 할 수 있음
- 공정 중 발생한 가스 제거를 위하여 필터 및 burn-out 점화기를 통하여 대부분의 가스 폐기물 제거
- 진공을 통한 반응가스 제거 및 사용자의 안전 보장
- 최대 사용 온도 : 1,800℃(운전 운도 1,600℃)
- Heating Zone : Φ500 × 600H ㎜
- 공정 가스 : MTS
- 승온속도 : 10℃/min(~1000℃), 5℃/min(~1500℃), 3℃/min(~1800℃)
- 공정 압력 : 50~760 Torr
- 제품 장입 방식 : 상하 승강 개폐