○ 사용 온도 : 1,800~2,000℃ [Max. 2,200℃]
○ Work Space : 700(W)×400(H)×700(L) m/m
○ 승온 속도 : 3~7℃/min◦ 장치 형식 : 전면장입 수평원통형 분위기제어 고온 진공로
◦ 사용 온도 : 1,900~2,400℃ [Max. 2,600℃]
◦ Work Space : 1000(W)×1000(H)×1000(L) m/m
◦ 온도 Uniformity : ± 6 ℃ inside Work Space
◦ 승온 속도 : 7℃/min(~1500℃), 5℃/min(~2000℃), 3℃/min(~2300℃)
◦ 가열 방식 : 가열실 내부의 머플 상하좌우 4면 가열
◦ 온도측정 : 제어 - Pyrometer, 과열감시 - 열전대
◦ 가열실 재료 : Graphite
◦ 머플 : Graphite 판재 + C/C Screw 조립의 4각 박스 구조
◦ 온도 제어 : 2 Zone 분할 PID Control by Programmer & Thyristor
◦ 공정 분위기 : 머플 내부 - 할로겐 가스, 머플 외부 - 불활성 가스
◦ 공정 압력 : 1~90KPa 분압 제어 또는 Pulse Cycle 반복 제어
◦ 순화가스 유동방향 : 상 → 하
◦ 진공 배기 : MBP + Dry Pump
◦ Leak Rate : Better than 5×10(- 3) Paㆍ㎥/sec
◦ 도어 방식 : 힌지회전 개폐 및 유압 Clamp Lock
◦ 제품 장입 : Lift Car에 의한 제품 또는 머플의 장입과 인출
○ 공정 압력 : 압 제어 또는 Pulse Cycle 반복 제어