웨스트팩
제작품
9년
주장비
분석
광학·전자 영상장비 > 이미지분석장비 > 달리 분류되지 않는 이미지분석장비
2024-05-21
4,660,358,000원
없음
EUV(extreme ultraviolet)용 블랭크마스크 기판의 평탄도를 계측하는 장비
EUV 블랭크마스크 Interferometer는 EUV 노광공정에 사용되는 블랭크마스크의 평탄도, Stress, 균일도 등을 계측하여 공정에 적용 가능 유무를 판단한다.
기관의뢰
고정형
기타
[Hr] 99,999원
EUV 블랭크마스크 Interferometer는 EUV 노광공정에 사용되는 블랭크마스크의 평탄도, Stress, 균일도 등을 계측하여 공정에 적용 가능 유무를 판단하는 목적으로 한다.
○ Substrate size : Max 210x210mm
○ Uncertainty : < 6nm
○ Dynamic range : 10㎛ (limited by surface slope)
○ Measured data point : ≤ 1,000,000/measurement
○ Measurement time : ≤ 30sec
○ Standard measurement : Front referenced flatness, local slope, stress
○ Cleanliness : Class 1 environment
○ Temperature control : room temp. / resolution 0.1℃