바코솔루션
제작품
12년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 전자빔증착기
2024-03-15
7,780,262,000원
없음
○ 본 장비는 160㎜ x 160㎜ 크기의 석영 유리 기판 및 이에 준하는 크기의 기판 상에 수 nm 두께의 박막에 대해 다층 반사막 형성이 가능하며, 높은 순도와 밀도의 박막 물질을 증착시킬 수 있는 Ion beam deposition 장비임.
○ EUV 블랭크마스크는 선택적 파장 (13.5 nm) 반사를 이용한 포토 공정 전용 부품으로, 석영 유리 기판 위 40쌍 이상의 고굴 절률(Mo)과 저굴절률(Si) 박막의 교차로 반복 증착된 다층막으로 구성되어있음.
○ 차세대 EUV용 박막 공정뿐 만 아니라 EUV용 블랭크마스크 기판을 개발하는 업체에 시제품 생산 공정을 지원할 수 있는 장비임.
기관의뢰
고정형
건별
[EA] 99,999원
○ 본 장비는 160㎜ x 160㎜ 크기의 석영 유리 기판 및 이에 준하는 크기의 기판 상에 수 nm 두께의 박막에 대해 다층 반사막 형성이 가능하며, 높은 순도와 밀도의 박막 물질을 증착시킬 수 있는 Ion beam deposition 장비임.
○ EUV 블랭크마스크는 선택적 파장 (13.5 nm) 반사를 이용한 포토 공정 전용 부품으로, 석영 유리 기판 위 40쌍 이상의 고굴 절률(Mo)과 저굴절률(Si) 박막의 교차로 반복 증착된 다층막으로 구성되어있음.
○ 차세대 EUV용 박막 공정뿐 만 아니라 EUV용 블랭크마스크 기판을 개발하는 업체에 시제품 생산 공정을 지원할 수 있는 장비임.