울텍
Wet station
9년
주장비
시험
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 식각장비
2023-03-24
91,850,000원
없음
본 장비는 대면적 세라믹 기판의 박막 제조공정 중 표면의 포토레지스트를 제거하기 위한 장비로
300mm Si 및 세라믹 기판의 세정과 Wet etch 공정 진행을 위한 세정장치이다.
-Si 비등방성 습식 식각
-PSL, 전기 도금, 텍스처링
-V-Groove, U-Groove, 캐비티 형성
-멤브레인, 마이크로 채널 형성
-세정 혼합 가능 / 화학적 에칭 / 솔벤트 / Developer bench 사용가능
기관의뢰 직접사용
고정형
시간별
[Hr] 999,999원
본 장비는 대면적 세라믹 기판의 박막 제조공정 중 표면의 포토레지스트를 제거하기 위한 장비로
300mm Si 및 세라믹 기판의 세정과 Wet etch 공정 진행을 위한 세정장치이다.
1) 구성
① Main body 1 set
② Chemical Deep bath 2 set
③ QDR bath 2 set
④ OFR nath 1 set
⑤ Power and Control module 1 set
⑥ DI 제조장치 1 set