(주)아전가열산업
AJ-SKT21
11년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 퍼니스
2022-10-24
42,900,000원
기관의뢰
고정형
건별
[EA] 22,000원
본 장비는 나노소재 및 세라믹 소재 혹은 고성능 세라믹 박막 등을 후열처리하는 장치이며 후열처리를 통해 각종 소재나 박막의 결정화를 달성하여 물질의 특성을 구현하는 장치이다.
본 장비는 C-DOT, RED 형광체, HIGH KINSULATOR등의 소재를 제작하기 위해 고온 열처리를 할 수있는 연구 개발 장비이다.
최대상승온도 : 1800도이상 초대상용온도 : 1600도 이상 튜브 외경지름 : 80mm 이상 PID 정밀 온도 제어 및 온도 프로그래밍
주장비 히팅존 :300mm이상
히팅소재 :MOSI2
부대장치 MASS FLOW CONTROLLER 및 GAS LINE 2개 이상 질소, 산소,필수
BACK PRESSURE REGULATOR 1EA CHILLER 1EA 초소탱크용량 :5L 이상