CPRI(철원플라즈마 산업기술연구원)

화합물 전처리·분석장비 > 반응/혼합/분쇄장비 > 반응장비

Ⅰ. 용도(End-user’s Use and Feature)
- RF 고온 플라즈마 시스템을 이용한 나노입자 제조 및 구형 입자 제조
- 고주파 플라즈마를 이용한 고온 영역(11000K)의 중앙에 원재료(전구체)를 주입시켜 순간 증발을 유도 후 증발된 모 재료들은
플라즈마 토치의 Sheath gas로 주입된 질화/탄화 Gsa와 반응 후 금속 산화물, 질화물, 탄화물 합성 나노입자 제조

고주파 플라즈마를 이용한 나노 분말 제조에는 유도 자기장으로 발생시킨 플라즈마의 고온 영역 (11000K)의 중앙에 원재료 를 (전구체)를 주입시켜 순간 증발을 유도 후 증발된 모 재료들은 플라즈마 토치의 sheath gas로 주입된 질화/탄화 gas와 반응 후 금속 산화물 및 질화물, 탄화물 제조 가능
고주파 플라즈마 무 전극 원리로 불순물 유입 제한
금속, 산화물,기타 세라믹 나노 분말 제조가능
유연한 모 재료 형태 사용 가능: 기상재료/ 고상 재료
모 재료 및 생산공정 중 질화/탄화 gas 주입으로 질화물,
탄화물 소재 제조 가능