Hitachi
NX5000
10년
주장비
분석
광학·전자 영상장비 > 이미지분석장비 > 주사전자현미경
공동활용서비스
2022-01-21
1,336,317,200원
기관의뢰
고정형
건별
200,000원
ㅇ Ion source에서 방출된 ion beam을 이용하여 시료에 조사시키고 이를 통해 시료의 원하는 영역을 nano-scale로 가공하는 동시에 가공면의 이미지를 구현하는 장비임
ㅇ 시료의 표면뿐만 아니라 내부까지 가공할 수 있어서 시료의 3차원적인 구조파악, 내부구성물질의 분포도 확인, 구성물질의 이동경로 파악 등 다양한 목적으로 활용할 수 있음
ㅇ 공기차단 시스템을 통하여 외부 환경과 시료를 차폐할 수 있어서, 외부 환경에 의한 시료의 변화 영향을 최소화하고 이를 통해 시료 본연의 재질 및 구조의 특성을 확인할 수 있는 장비임
1) Ion gun : Ga liquid metal ion source
- Resolution : 4.0nm at 30kV
- Edge resolution : 60nm
- Beam current range : 1pA ~ 100nA or more
- Acceleration voltage : 0.5 ~ 30kV or more
2) Electron gun : Cold-type Field emission electron source
- Resolution : 0.7nm at 15kV, 1.5nm at 1kV
- Real-time SEM monitoring during ion beam processing
- Accelerating voltage : 0.35 ~ 30kV
3) Signal detection system
- In-column SE (Secondary Electron) detector, 1set
- In-column BSE (Back Scattered Electron) detector, 2sets
- Chamber SE (Secondary Electron) detector, 1set
- CCD camera for chamber viewing, 2sets
4) Load-lock chamber including air-protection system & holder
5) 5-axis motorized stage for loading 150mm diameter
6) Gas injection system : 2 channel or more (C, W)
7) Cut & see function : set up to min. 1nm/step
8) 3D reconstruction software
9) Energy dispersive spectrometer
- Detector type : LN2 free type silicone drift detector
- Energy resolution : 127eV at MnKa
- Detecting sensor size : 100mm2
- Maximum input count rate : 1500kcps
- Detecting element range : Be(4) to Cf(98)