Hitachi
SU8230
10년
주장비
분석
광학·전자 영상장비 > 카메라/영상처리장비 > 주사전자현미경
공동활용서비스
2021-12-14
974,818,400원
기관의뢰
고정형
시간별
70,000원
가속된 전자빔을 시료에 조사할 때 표면에서 발생되어 나오는 2차전자, 후방산란전자를 수집하여 그신호들을 영상화시켜 미시영역 관찰이 가능하게 한 대표적인 표면 분석 장비임.
시료는 특성 X-선을 방출하게되며, 이 특성 X-선의 에너지 값을 분류하여 시료의 화학조성에 대한 정성 및 정량분석 가능
1) Resolution : 0.6nm@15kV / 0.7nm@1kV
2) Electron gun : Cold-type Field emission electron source
3) Landing voltage : 0.01kV
4) Signal detection system
- In-column SE/BSE (Secondary Electron) detector, 2sets
- Chamber SE (Secondary Electron) detector, 1set
- 5 or more segments type BSE detector, 1set
5) Load-lock chamber including air-protection system & holder
6) 5-axis motorized stage for loading 150mm diameter
7) Wide area fabrication function with air-protection and cooling method
- Milling width : Max. 8mm
- Milling speed : 1mm/hr (Based on Si)
- Cooling range : -100℃ or less
8) Dual EDS system
- Windowless type EDS detector for Li detecting
- Large sensor EDS detector(100mm2) for high speed analysis and mapping