Ⅱ. Performance & Specification
1. 노광기(Stepper)
(1) Mainbody 축소투영광학계
- 축소배율 : 1/2.5x
- 노광범위 : 44.0mm x 44.0mm
- 노광파장 : I-line (365nm)
- 노광시간설정 : 0.03sec ~ 9.999sec
- 초고압 수은등 : 2500W
(2) Reticle Alingment Unit
- Reticle Holder : 6Inch
- Reticle Rotation정도 : lXl + 3δ ≤40㎚
- Reticle Size : 6 ”x 6 ”
- Reticle 재질 : Quartz glass(0.25T)
(3) Wafer loader unit
- Wafer Size : Φ150㎜ & Φ200㎜
- Wafer Loader Type : 6Inch & 8Inch Loader
- Wafer Carrier : Wafer Size 6Inch, Pitch 3/16”, 25매
(4) Wafer Stage unit
- Strock : ≥XY 200㎜
- 최대 이동속도 : ≥180㎜/sec이상
- Wafer Table 회전각도 : ±1도
- Wafer 흡착면 평행도 : 2.5㎛(at 150㎜)
(5) Temperature Controller Unit
- 설정 온도 범위 : ≤±0.1℃
- Chamber 온도 : 20 ~ 25℃
- 습도 : ≤70%
2. Accesary
(1) Vibration Pad 진동조건
- 4Hz이하 : ≤0.4gal
- 4Hz~25Hz : 0.4gal(4Hz) ~ 8gal(25Hz)
- 25Hz~250Hz : ≤8gal
Ⅲ. 기타조건(Remarks)
(1) 작업장 : SUS_1,400*600*1800mm 2ea
(2) 작업테이블 : SUS_1,200*700*750mm 2ea
(3) 클린룸의자 : 3ea
(4) 무상하자보수기간 36개월