세미트로닉스
LP-CVD
5년
주장비
시험
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 플라즈마기상화학증착장비
2022-05-26
428,136,960원
기관의뢰
고정형
건별
[EA] 50,000원
○ 본 장비는 질화막을 증착하는 LPCVD(1tube)와 실리콘 기판에 산화막을 형성하는 Oxidation 공정과 고온에서 열처리하는 Anneal 공정이 가능한 Furnace(1tube)로 구성이 됨
○ LPCVD는 저압으로 유지되는 Process tube 내부로 공정용 가스를 주입하여 고온에서 반응시켜 실리콘 기판에 질화막 증착이 가능함
○ 주입되는 공정 가스 비율을 조절하여 증착되는 질화막의 응력 제어가 가능함
1) Process chamber Module
(1) Substrate size : 8inch wafer
(2) Quartz boat capacity : ≥Si wafer 50ea@8inch
(3) Heater temperature : ≥ 1,200℃
(4) Temperature flat zone : ≥300mm(@temp.±1℃)
2) Loading Module
(1) Loading capacity : ≥50ea@8inch
(2) Horizontal movable by motor : yes
3) Vacuum Module
(1) Dry pump : ≥ 30,000L/min
(2) Ultimate pressure : ≤ 1.0E-2 Torr
(3) Baratron gauge : ≥ Full scale 10torr
(4) Type : Automatic Pressure Controller (APC)
4) Gas & Source delivery Module
(1) MFC : NH3, DCS, SiH4, N2, O2
(2) N2 purge and vent : Metering valve
(3) Gas line He leak test : ≤ 10E-8Torr.L/sec
(4) Soruce delivery : Di Steamer or Di bubbling
(5) Gas detector : DCS(2ea), NH3, SiH4(3ea)
(6) Gas detector Accuracy : ≤ ±3%
5) Scrubber
(1) Type : heat & Wet
(2) Scrubbing process temperature : ≥800℃
(3) Scrubbing process capacity : ≥1500LPM
6) Utility hook-up
(1) Gas line 설치 : EP316 line_15M 이내
(2) Toxic gas line : 2중배관(Regulator 설치)
(3) Exhaust line 설치 : Scrubber까지 20M이내
(4) 냉각수, 공압 line 설치(20M이내)
(5) Power line 설치(30M이내)
7) S/W 및 기타
(1) Industrial PC & Monitor
(2) Wafer boat : 8inch wafer용 quartz boat 1set
(3) 무정전 전원장치 : 10분 이상유지(PC Only)
(4) 보관함 : SUS 1,400*1,800*600mm*1ea
(5) 작업테이블 : SUS 1,200*700*750mm*2ea
(6) 클린룸의자 : 2ea
(7) 공구함 : 1ea