마이다스시스템
MDA-12FA
9년
주장비
시험
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비
2022-03-16
484,000,000원
기관의뢰
고정형
기타
999,999원
Photolithography 공정의 핵심을 담당하는 mask aligner는 미세 마이크로급 회로를 구현하기 위해 균일도가 높은 자외선 광원을 사용해야 하며, 공정이 다층으로 이루어지므로 정밀한 스테이지 기술과 레벨링 등의 첨단 기술이 필요한 시스템이다.
○ 300mm급 반도체, 세라믹, 금속의 미세 패턴 구현을 위한 photo litho. 장비
○ 세라믹기판을 포함한 다양한 대면적 기판의 활용이 가능
○ 차세대 반도체 소재·부품 대응을 위한 소부장 업체 지원 및 박막 연구 개발 장비
○ 구성
√Mask aligner, Exposure unit, 시편이송 system, edge 제어 system
○지원가능 샘플
√크기: ~300mm, 종류: 세라믹기판, Glass, Si 등
○성능
√Mask size : up to 14x14 in
√ Exposure area : up to 340mm
√Accuracy TSA : down to < 0.5㎛
√ Accuracy BSA : down to < 1㎛
√ Stage movement range : X(±5mm), Y(±5mm), θ(±4o)