마이다스시스템
MDA-12FA
9년
주장비
시험
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비
2022-03-16
622,600,000원
기관의뢰
고정형
기타
999,999원
Mask aligner는 반도체, 디스플레이, MEMS 및 각종 센서 공정 중에서 photolithography 공정을 수행하는 시스템으로서 세라믹, 웨이퍼 등의 기판 위에 마이크로급 미세 패턴을 형성시키는 것을 목적으로 한다. 대면적 다층막 노광장치는 Mask aligner의 패턴 aligner를 제외한 노광장치에 대한 장비이며, 최종 패턴 aligner와 호환 사용한다.
○ 300mm급 반도체, 세라믹, 금속의 미세 패턴 구현을 위한 photo litho. 장비
○ 세라믹기판을 포함한 다양한 대면적 기판의 활용이 가능
○ 차세대 반도체 소재·부품 대응을 위한 소부장 업체 지원 및 박막 연구 개발 장비
○ 구성
√ Mask aligner, Exposure unit, 시편 이송 system, edge 제어 system
○ 지원가능 샘플
√ 크기: ~300mm, 종류 : 세라믹기판, Glass, Si 등
○ 성능
√ Mask size : up to 14x14 in
√ Exposure area : up to 340mm
√ Exposure Wavelength : 365, 405nm
√ Optic intensity uniformity : ±3.0