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장비정보

제작사
Iontof
모델 명
M6

내용연수
10년
구분
주장비

용도
분석
표준 분류
화합물전처리/분석장비 > 질량분석장비 > 이차이온질량분석기

장비활용범위
공동활용서비스
취득일
2024-12-13

취득금액
1,791,411,620원
인증정보
없음
기능
비행시간형 이차이온질량분석기(TOF-SIMS)는 시료에 적은 양의 일차이온을 펄스 형태로 충돌시켜서 시료 표면에서 방출되는 이차이온들의 질량을 분석하는 장비로, 시료 표면을 구성하는 원자 및 분자의 종류, 분포 및 존재량 분석
장비 상세설명
장비용도
- 유기/무기막 표면분석 및 표면 이미지 측정
- TFT 이온 도핑 depth profiling 및 박막 공정 중 극미량 불순물 잔류 분석
- Depth profiling을 이용한 다층막의 깊이에 따른 조성변화 분석
- 박막 표면의 오염 및 불량 원인 정성/정량 분석
- 극미량 dopant의 depth profiling 및 정량 분석
- Glass 및 PI 기판 소재 조성 분석
- 전자 장치, 디스플레이 재료, 폴리머, 금속 등 유기/무기 화합물의 정성·정량 분석 및 이미지 분석

장비구성
- TOF analyzer
- UHV analysis chamber and Fast entry air lock
- Bi cluster ion source (Bi nanoprobe)
- O2 and Cs dual source for Depth profiling
- A motorized five-axes UHV sample stage with
- Two CCD high resolution video cameras
- A high quality Everhart-Thornley secondary electron detector
- A self-adjusting charge compensation system
- Gas flooding system
- Data system
- Ar Cluster source for organic depth profiling : Sputter Mode
- EDR Analyser
- Photo Navigation
- I/B MAIN Chamber
- I/B loadlock
- SW : SurfaceLab 7.4.

이용안내

사용형태
기관의뢰

설치형태
고정형
사용료 형태
시간별

장비 사용료
[Hr] 150,000원

장비설명

비행시간형 이차이온질량분석기(TOF-SIMS)는 시료에 적은 양의 일차이온을 펄스 형태로 충돌시켜서 시료 표면에서 방출되는 이차이온들의 질량을 분석하는 장비로, 시료 표면을 구성하는 원자 및 분자의 종류, 분포 및 존재량 분석

장비 구성 및 성능

1) TOF analyzer : Reflectron type TOF analyzer or equivalent
- Mass resolution at low mass (29 u) : 17,000 (FWHM)
- Mass resolution at higher mass (> 200 u) : 26,000 (FWHM)
- Flight length : 2 mete
- Mass range : 12,000 u
- Sensitivity @ mass resolution at 27 u : 8.5 x 108 Al+/nC
2) UHV analysis chamber and Fast entry air lock
- Base Pressure : 5 x 10-10 torr
3) Bi cluster ion source (Bi nanoprobe)
- Max. beam energy : 30 KeV or more
- Max. DC ion current in Spectrometry mode : 40 nA
- Min. beam diameter : 50 nm
4) O2 and Cs dual source for Depth profiling
5) A motorized five-axes UHV sample stage
6) Two CCD high resolution video cameras
7) A high quality Everhart-Thornley secondary electron detector
8) A self-adjusting charge compensation system
9) Gas flooding system
10) Data system
11) Ar Cluster source for organic depth profiling : Sputter Mode
12) SW : SurfaceLab 7.4.

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