재성엔지니어링
COOLUV-150
9년
주장비
시험
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비
2022-01-25
41,530,000원
기관의뢰 직접사용
고정형
시간별
120,000원
Photo Resist와 Mask를 이용하여 마이크로 패턴을 형성
6인치 Photo Resist와 Mask를 이용하여 마이크로 패턴을 형성.
현미경을 이용하여 기판의 기존 패턴과 신규 형성 패턴의 얼라인 가능
○ Light source module
- Lamp type : 210W
- Wavelength : 350nm to 450nm 이내
- Max. beam size : 6in. x 6in.
- 365nm Intensity : 15 mW/cm2
- Beam uniformity : ±3% (4in.) 이하
○ Microscope
- Dual CCD zoom microscope
- Manual moving stage : Dual X, Y, Z axis
- Move range : Y Axis ± 20 mm
○ Stage and controller module
- Stage movement : X, Y : 8 mm
- Stage movement : Theta : ±4° 이내
- Z Motion travel : 10 mm
- Contact mode : Vacuum, Hard, Soft Contact
- Alignment accuracy : 5um 이하
○ Resolution
- Vacuum Contact : 2um 이하 @PR Thickness 1um
- Hard (Pressure) Contact : 3um 이하
- Soft contact : 5um 이하