재성엔지니어링
SSP200C
10년
주장비
교육
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 트랙장비
2022-01-25
52,995,510원
기관의뢰
고정형
시간별
100,000원
1) , 4~8 PR 본 장비는 반도체공정 중 포토리소그래피 공정을 수행하기 위한 장비로 인치 웨이퍼를 코팅 및 소프트베이크 할 수 있다 (Spin-Coat) (soft bake) .
2) PR (Spin Coat) Chuck Spin . 코팅 공정은 진공 을 이용한 방식으로 진행 할 수 있다
3) (soft bake) Hot Plate . 소프트이크 공정은 를 이용하여 접촉방식으로 진행 할 수 있다
1) Bake unit
- 온도 범위 : 룸room temp. ~ 200℃, max
- 열판 표면 온도 정확성 : 룸 온도 ~ 150℃ : ≤0.8℃, 150℃~200℃ : ≤1.5℃
- 프로세스 신간 설정 범위 : 0 ~ 999sec
- 웨이퍼 취급 방식 : 정밀 공기 실린더를 이용해서 3-포크 핀 상승/하강 방식
2) Coater unit
- 스핀 모터 속도 : ~ 6000 rpm, max
- 스핀 속도 정확성 : 설정 ±1 rpm
- 스린 가속도 : 0 ~ 30000 rpm/sec
- Dispense 방식 : 다이아프램 PR 펌프 → 보통 PR용, <200CP
- Dispense 암 정확성 : ≤ ±0.2mm
- 웨이퍼 센터링 : 0 ~ ±0.2mm (척 ctr. /웨이퍼 ctr.)