기가레인
NeoGENll-MAXIS200L
10년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 식각장비
2021-09-17
1,368,000,000원
기관의뢰
고정형
기타
250,000원
본 금속식각장비는 고밀도 ICP플라즈마를 이용하여 웨이퍼 표면 위에 증착된 금속 박막 및 산화막을 포토레지스트 패턴에 따라 선택적으로 식각할 수 있는 장비이다. 3개의 챔버로 구성되어 있고, 각각의 챔버는 금속 식각, 산화막 식각, 잔류 포토레지스트 제거를 위해 사용된다.
- Chamber 1 (Oxide) gases: SF6, CF4, CHF3, Ar, O2, He, N2
- Chamber 2 (Metal) gases: BCl3, Cl2, CF4, Ar, O2, N2
- Ceramic ESC with back side He cooling
- EPD
- Temperature control: -20~150 ℃