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- Plasma Treatment system
- 플라즈마 처리 시스템
- i-Tube No. 2201-C-0149
- NTIS No
- 설치기관 충북대학교산학협력단
- 주소 충청북도 청주시 서원구 충대로 1 (개신동, 충북대학교)
- 담당자 김성진 (T. 043-261-2451 )
- 매뉴얼
-
온라인* 본 장비는 온라인 예약이 불가하오니 장비사용 예약과 관련해서는
예약가능여부
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장비정보
-
제작사
지디테크
-
모델 명
GD-TECH Plasma Treatment System
내용연수12년
-
구분
주장비
용도시험
-
표준 분류
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 스퍼터
-
취득일
2022-01-24
취득금액71,000,000원
- 인증정보
- 기능
- 장비 상세설명
이용안내
-
사용형태
기관의뢰
설치형태이동형
-
사용료 형태
기타
장비 사용료1,000원
장비설명
- 플라즈마 처리 시스템은 플라즈마를 이용한 표면처리와 증착이 가능한 장치
- 플라즈마 처리 가능한 표면 두께 : 사용자가 특정함
- 플라즈마 처리 물질 : 금속, 화합물 등
- 제1전극(MoW층), 금속 산화물층(TiO2, TiOx, IGZO 등) 제2전극(MoW층)을 증착하는데 사용
장비 구성 및 성능
진공 챔버 : 공정 챔버로 구성.
- 표면 균일도 : ≤ ± 5 % @4인치 기판
- 처리 가능기판수량 : 4인치 이상 1장
- 진공도 : 최저 진공도(Ultimate pressure) 5.0 x 10-7 Torr (with high vacuum pump)
- 기본 진공도(Base pressure) 3.0 x 10-5 Torr (with high vacuum pump)
- 시스템 제어 : semi auto and manual
서울특별시 강남구 테헤란로 305 한국기술센터 2~7, 14층, 16~17층, 21층
TEL : 02-6009-3000 / i-Tube 대표문의: 1811-9126
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