가. Process Chamber
- 공정을 진행하기 위해 진공분위기를 만들고 공정을 진행하기 위한 장치를 설치
하도록 꾸며진 Metal Box.
나. Pumping System
- Chamber 내부를 진공의 분위기로 만들어 주기 위한 장치 이며 진공 측정장치도 포함된다.
다. Gas Shower & Gas Supply Unit
- 식각을 위한 가스를 공급하며, Wafer위에서 가스를 분사시키는 장치이며 가스분사 방식에 따라
Annealing 균일도에 영향을 주는 중요한 장치.
라. Wafer Heating Unit
- Wafer를 열처리 하기 위한 가열장치.
마.Vacuum Pressure Control Unit
- 공정을 위한 쳄버내 압력 분위기를 자동으로 제어하는 장치.