코리아바큠테크
제작(모델명없음)
12년
주장비
교육
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2022-02-04
100,000,000원
기관의뢰
이동형
기타
1,000원
본 장비는 Passivation, Buffer, High-K 게이트 절연막 등 산화물 원자층 박막을 성장시키는 장비로서 추후 업그레이드를 통해 CVD 공정을 하나의 장치에서 수행할 수 있고 로드락챔버 및 광학측정장치를 설치할 수 있는 구조로 되어있다.
∙ 증착기판크기 : 6인치
∙ 레서피에 의한 자동증착 공정 제어 / 인터락에 의한 안전 공정 제어
∙ Ultimate pressure : 5 Pa 이하
∙ Substrate heating temp. : Max. 700 ℃
∙ Deposition uniformity : std ±1% 이내