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- i-Tube No. 2112-C-0121
- NTIS No NFEC-2021-12-274982
- 설치기관 가천대학교 산학협력단
- 주소 경기도 성남시 수정구 성남대로 1342 가천대학교
- 담당자 이상렬 (T. 043-229-8534 )
- 매뉴얼
-
온라인* 본 장비는 온라인 예약이 불가하오니 장비사용 예약과 관련해서는
예약가능여부
장비 보유기관에 직접 문의 주시기 바랍니다. (장비 예약은 Zeus 시스템에서 회원가입후 예약가능)
장비정보
-
제작사
(주)대기하이텍
-
모델 명
Atomic layer deposition
내용연수12년
-
구분
주장비
용도생산
-
표준 분류
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 원자층증착장비
-
취득일
2021-12-14
취득금액83,827,450원
- 인증정보
- 기능
- 장비 상세설명
이용안내
-
사용형태
기관의뢰
설치형태고정형
-
사용료 형태
시간별
장비 사용료80,000원
장비설명
본 장비는 원자층 수준으로 박막을 증착하기 위한 장비로
흔히 고유전율 박막 재료나 강유전체 소재를 증착하는데 최적화 되어있음.
Al2O3, HfO2, ZrO2 등의 소재를 증착할 수 있음.
장비 구성 및 성능
가. 본 제작품은 진공상태에서 ALD System을 이용한 다양한 박막을 만들기 위한 장치임.
다. 최종 도달 진공고: 1x10-3 Torr보다 낮아야 함.
라. 증착 균일도: Al2O3 박막을 6“Wafer 면에 증착할 경우 ±1% 이내여야 함.
마. Substrate 가열온도 균일도: 6“기준 250℃±1% 이내여야 함.
바. Heater 최고 도달 온도: 600℃
서울특별시 강남구 테헤란로 305 한국기술센터 2~7, 14층, 16~17층, 21층
TEL : 02-6009-3000 / i-Tube 대표문의: 1811-9126
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