마이다스(주)
MDA-400M
9년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비
2021-10-19
49,030,000원
기관의뢰
고정형
시간별
20,000원
1) Photo Lithography 공정을 수행하는 시스템으로서 감광막에 자외선(UV)을 직접 조사하여 반응 Wafer 및 기타 Substrate 위의 다양한 물질에 Pattern을 형성시키는 것을 목적으로 한다.
2) 옵션으로, Nanoimprint kit 를 추가하면 나노 패턴 스탬프로 고해상도 패턴 구현이 가능하다.
1) Light Source Module
2) Microscope Module
3) Stage and Controller Module
4) Accessories
- Aiti vibration table 1ea
- Vacuum chuck 2ea
- Mask holder 2ea
- I-line filter 1ea
- H-line filter 1ea
- G-line filter 1ea
- 365nm Intensity probe 1ea
- Vacuum pump 1ea
7) Intensity 측정 가능하도록 컨트롤러 내 probe 연결이 되어야 한다.
8) 추후 나노패턴 공정이 가능하도록 Nanoimprint kit 장착 가능한 구조여야 한다.