마이다스
MLW100
10년
주장비
교육
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비
2021-12-08
128,000,000원
기관의뢰
고정형
기타
1,000원
마스크리스 리소그리피 장치는 반도체, MEMS, Bio, 등의 여러 분야에서 공정 중에서 마스크 없이 리소그래피 공정을 수행하는 시스템으로서 웨이퍼나 유리판의 기판위에 미세 패턴을 형성 시키는 것을 목적으로 한다.
기판위에 감광 물질을 도포 한 후 패턴의 역할을 하는 GDS파일의 패턴대로 레이저를 이용하여 그리면 감광물질이 레이저에 반응을 한다. 그리고 박막 증착 및 식각공정으로 최종 원하는 패턴을 구현한다.
A. Optics
- 405nm, 레이저 다이오드
- Lifetime: 10,000시간
- Write modes: 0.6um (옵션: 1.5um, 2.5um)
- Intensity: Max. 3mW, 소프트웨어로 조절가능
- Autofocus
B. Top-side Alignment
- Pixel resolution: 1um
- Alignment accuracy: 0.5um
C. Mechanical properties
- Scan speed: Max. 200mm/S
- Substrate thickness: up to 10mm
- Substrate size: Min. 5×5mm, Max. 125×125mm
- Exposable area: Max. 110×110mm
D. Resolution
- High: 0.6um(기본)