Plasma-Therm LLC(Refurbish 업체 : 루멘반도체)
unaxis 770
9년
주장비
분석
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 식각장비
2020-12-29
102,000,000원
직접사용
고정형
건별
80,000원
- 플라즈마에 상태의 radical을 기판에 가속시켜 물리적 식각과 화학적 식각을 동시에 유발하여 기판의 비등방성으로 식각하는 장비로 반도체 소자 제작에 필수적인 공정 장비임.
- 다양한 process gas를 사용하여 산화물 및 질화물 혹은 반도체 소재의 식각이 가능하고 플라즈마 파워, 압력을 조정하여 식각 거동을 정밀하게 제어할 수 있어 미세 패턴 형성에 활용되고 있음.
•Capable upto 200mm wafers
-Currently set up for 6“ wafers
•Process Chamber
-Chamber Body: 23~60℃ HEATER T. P. R Control
-Chuck Temp 1: 23~ 230℃ HEATER T. P. R Control
-Chuck Temp 2: Chiller -5℃ ~ 45℃ Neslab HX-75 Chilller
•Load Lock
•RF Generators
-RF Gen#1: AE RF-20MWC, 2kW
-RF Gen#2: ENI ACG-6B, 600W
•Lower Electrode Temp Control (Heating & Cooling)
•Chamber Wall Heater
•Oerlikon Leybold Turbo: Model MAG W 1500 CT
•Neslab HX-75 Chiller
•Configured with following MFCs:
-CL2: 60 SCCM
-BCL3: 50 SCCM
-CF4: 30 SCCM
-SF6: 40 SCCM
-N2 : 40 SCCM
-AR : 80 SCCM