(주)울텍
AquaChem series
5년
주장비
시험
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비
2021-07-14
462,798,400원
기관의뢰
고정형
건별
2,000,000원
○ 원리
- 포토리소그래피: 감광액 (photoresist, PR)을 이용하여 집적회로의 미세한 회로를 그리기 위한 광학 공정을 포토리소그래피 공정이라고 함 PR은 특정한 에너지의 빛 (주로 자외선, UV)에 노출되면 화학적인 구조가 변하며(노광 공정), 이 반응이 나타난 부분만을 제거하거나 남길 수 있음. 이 과정을 현상 (develop)이라고 말함. 마스크 & 현상 과정으로 일정 영역에서만 도포된 PR층은 식각을 막음으로써 회로를 그리기 위한 보조 역할을 함. 그려진 회로는 에칭, 스트립 공정을 거쳐 최종적으로 패터닝된 산화물 등의 구조가 남게 됨.
- 습식식각세정 (wet station) 시스템: 포토리소그래피 공정에서의 PR의 도포와 미세회로의 식각은 여러 층에 걸쳐서 연속적으로 이루어짐. 그렇기에 정확한 초기 위치, 마스크의 이동 및 UV 광원의 노광 공정을 마이크론 이하의 스케일에서 제어할 수 있는 압전 컨트롤러가 내장된 고성능의 마스크 얼라이너가 필요함. 습식식각세정 시스템은 최소 현상기 수조, 식각기 수조, PR 제거 수조, 초순수 수조의 4개의 수조로 구성되어 있으며 패터닝된 구조를 세정함.
○ 본체 구성
- Size(mm): 4500 x 1100 x 1985 (h)
- Frame: SS41 Square Pipe frame with anti-corrosive paint coated
1. Chemical bath: Developer 1 set
2. Chemical bath: Etcher 1 set
3. Chemical bath: Striper 1 set
4. Chemical bath: BOE 1 set
5. QDR bath 4 set
6. Hot DI rinse bath 1 set
7. Hot Air dry system 1 set
8. 운영 소프트웨어 1 set
○ 시스템 구성
- Substrate size & load capacity
: 200mm*200mm substrate –1cassette/batch
- Cassettecapacity:1cassette(5nos.)
- Auto cover for chemical bath
- Auto shutter for loader, developer and unloader
- Load/Unload station
- Cassette moving by robot
- Hot DI rinse
- Hot air dryer
- PC control
○ 시스템 성능
- 최대 8 inch (200 x 200 mm2 대응 가능) 크기의 컬러핕터용 포토레지스트 코팅에 대해 패터닝 공정을 수행할 수 있는 장비
- Developer, Etcher, Striper, BOE의 솔벤트 용량이 최대 10 L의 소량의 솔벤트로도 유저가 매뉴얼로 운영이 가능한 시스템
- 로봇팔 운송 시스템을 통한 샘플 운송 기능
- 자동소화장치 설비 내장