○ 집속이온빔 이차질량분석기(FIB-TOF/SIMS)는 FIB(집속이온빔)에 TOF-SIMS(비행시간형 2차 이온 질량 분석기)를 장착한 융합 장비로 시료 전처리부터 분석이 완료될 때까지 하나의 공간에서 이루어지므로, 대기 노출에 의한 산화 반응 등의 시료 오염 없이 극표면 분석 및 극미량 원소분석이 가능함
○ 디스플레이 및 반도체 소재, 첨단 화학소재의 품질 관리에 대한 중요성이 증가함에 따라, 이에 대한 대면적 불량의 원인 및 내부 형상의 파악 등 불량분석에 대한 수요가 급증하고 있으나, 특정 부위를 1 mm 수준의 영역을 대면적으로 가공 및 분석할 수 있는 장비가 전무한 실정임
○ 기존 Ga 집속이온빔을 활용해서는 100 ㎛ 이하의 매우 국소 부위의 가공 및 분석이 가능했던 단점을 보완하여 Xe 플라즈마를 활용하여 기존 Ga 이온빔 FIB 대비 30 ~ 50배 이상의 높은 효율로 대면적 가공이 가능하게 하여 반도체, 디스플레이, 첨단 화학소재 등의 다양한 재료에 대하여 고해상도로 대면적 분석이 가능함