비아트론
퍼니스
9년
주장비
생산
기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 열처리장비
공동활용서비스
2025-08-11
726,000,000원
없음
Process temperature(range) : 80℃ ~ 450℃
Temp range in ramp up area : Heat Rate 0.1~5℃/min 이상
Process type : Activation anneal / contact anneal
Keep temperature
≤±10℃(N2 2,000SLM FLOW)
≤±3℃(N2 100SLM FLOW)
Temperature range in cooling down :
Cooling Rate ≤ 5℃/min → △60℃ (2,000SLM+SCK)
Cooling Rate > 5℃/min → △80℃ (2,000SLM+SCK)
1. 디스플레이 전공정 LTPS(Low Temperature Poly Silicon) TFT(Thin Film Transistor)의 탈수소화 열처리, 도핑 후 Activation 열처리, Anode 전극 완성 후 열처리 목적
2. 용액공정 및 소재 특성의 향상과 신공정 개발을 위한 열처리 조건 평가
기관의뢰
고정형
시간별
[Hr] 149,000원
1. 디스플레이 전공정 LTPS(Low Temperature Poly Silicon) TFT(Thin Film Transistor)의 탈수소화 열처리, 도핑 후 Activation 열처리, Anode 전극 완성 후 열처리 목적
2. 용액공정 및 소재 특성의 향상과 신공정 개발을 위한 열처리 조건 평가
◦Max. temperature : 650℃ 이상
◦Process temperature(range) : 80℃ ~ 450℃
◦Stand-by temp : 80℃ ~ 120℃
◦O2 Control : <2000ppm