Suss Microtec
MA8
10년
주장비
시험
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비
2021-12-30
391,863,360원
고정형
원
- 고성능 리소그래피 시스템으로 높은 분해능과 안전성을 보유한 장비로 능동 및 수동 소자의 패턴에 사용하는 장비임
- 광소자 칩 개발/제조공정 : WDM 광소자의 미세패턴형성에 활용
- SUSS MA8 Gen4 MASK ALIGNER
· 기본 시스템 및 정렬 스테이지가 장착 구조
· 마스크와 웨이퍼 접촉 또는 비접촉기능: 1 ~ 1000 ㎛ 프로그래밍가능
· 마스크 정렬 범위 : X +/- 5.0mm, Y +/- 5.0mm, Theta +/- 5 °(@ 정렬모드)
· ZERO position 기능(전동방식)
· X / Y/ THETA Joystick 제어, 스테이지 이동방지 및 모터잠금방식 접촉마스크 및 기판보호
· 전동식 X-Y manipulator장착 현미경스테이지
· 웨이퍼 Manual loading and unloading
· LCD 디스플레이, WINDOWS GUI를 통한 PLC 제어
· 현미경 장착된 정렬 시스템(2x디지털 카메라, 백색 LED, 필터, 전원 공급 장치 및 케이블
· Single Objective UMPL FL 5X/0.15 : Working distance 20mm
· Objective LMPLFL 10X/0.25 : Working distance 20mm, For use with LCMM maskholder
· Exposure Unit LH350 MA/BA GEN4: Lamp house for 350W, Mirror house, Pneumatic assembly
· Lamp Adapter LH350/HBO350W/S
· Lamp Power Supply Unit CPC350/LH350
· 3 Lamp Set HG 350W/S LH 350 / OSRAM
· MO Exposure Optics UV400/LS/W-200 LH350