(주)에스아이엔지니어링
유기 웹 스테이션
10년
주장비
교육
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 식각장비
2021-02-02
45,000,000원
기관의뢰 직접사용
고정형
건별
[Hr] 120,000원
본 장비는 Wafer, Glass 등의 목적물을 아세톤, Thinner 등의 유기Chemical을 이용하여 리프트 오프 공정 등의 습식 식각 세정 공정을 수행 후 DI.W로 세정하는 것을 목적으로 하는 장비이다.
장비의 외관은 PRESS IVORY PVC PLATE 로 구성되며 전면 DOOR 타입은 UP/DOWN 방식으로 개폐된다.
모든 Bath의 용액 Supply는 Manual 방식으로 공급한다.
모든 Bath의 용액 Drain 은 스위치를 통해 조작 하며
ULTRASONIC OR HEATER 가 내장된 Bath는 별도의 Interlock을 설정하여 사용간 안전을 도모한다.
재질 - SUS304+내산도장 & PRESS IVORY PVC PLATE
외관 Dimension- 1500(W) X 900(D) X 2000(H)
설비 내부에 비커 등의 거치용 선반 장착
내부 구성은
유기 Bath #1 – 유기 Bath#2 – Rinse Bath –Sink Bath +Goose Neck Type Faucet
(Foot Switch 작동 방식)
유기 Bath #1/#2
재질-PTFE 12T
Size(외경기준) : 250(W) X 250(D) X 255(H)
사용온도 : 80℃ (Quartz Heater , PID 제어 )
Bath Process : ULTRA Sonic 400W / 40Khz 직접 방식
부력센서를 통한 인터락 / Temp Interlock : 40℃이상 Drain 불가.
Rinse Bath
재질 : 투명 PVC 10T
Size(외경기준) : 240(W) X 240(D) X 240(H)
사용온도 : Room Temp.
Bath Process : 4 side overflow by V-notch
Quick Dump Drain
DIW Shower by 반도체용 nozzle
N2 bubble
Process Cycle Counter
Drain : Local drain (Quick Dump Drain)
Operation Valve : Air operated auto valve & Manual valve
Diffuser Plate : 투명 PVC 10T
DIW Sink Bath
재질 : PP 8T
Size(외경기준) : 296(W) X 296(D) X 121(H)
사용온도 : Room Temp.
Bath Process : Goose Neck type Faucet (Foot Switch 작동 방식)
Drain : Local drain