KLOE
Dilase650
10년
주장비
교육
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 리소그래픽장비
2020-12-29
366,572,600원
기관의뢰 직접사용
고정형
건별
[Hr] 80,000원
- UV파장대의 레이저를 이용하여 감광액이 도포된 기판에 직접 조사함으로써 미세 패턴을 제작하는 장치
- 별도의 마스크가 필요없이 다양한 회로 패턴 제작하는 장치
- 반도체 소재, 장비, 공정 연구 중 초기 단계 연구의 일회성 또는 반복횟수 적은 μm단위의 미세 패턴 형성 공정에 사용하는 장치
- Main system: Direct laser writing photolithography system
- Exposure area for 3x3mm2~6-inch wafer
- Substrate: Si wafer and Quartz mask, 3x3mm2~7-inch mask, Substrate thickness 300μm~10mm
- Patterning resolution: ≤1μm
- 375nm Laser source, Easy to upgrade for 0.5μm resolution
- Exposure dose 30m~1MJ/cm2
- Light source life-time ≥10,000hr
- Staging system 1set
- Writing speed >500mm/sec
- Throughput @Line/Space pattering : ≥50mm2/min @1um L/S pattern, ≥500mm2/min@10um L/S pattern
- X-Y Staging precision ≤100nm
- System controller: 1set with software interfacing the mechanical and electrical components
- Data conversion system: ≥1set, compatible DXF-GDS2
- Realignment precision: ≤500nm
- Overlay function : resolution ≤500nm
- Exposure optics & control system for small and large patterns: Laser spot 1~50μm, automatic control
- Automated focus
- Warranty: ≥1year
- Compatible with AZ-series & SU-8 PR