코리아바큠테크㈜
KVR-6000
10년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 열처리장치
2021-01-29
164,200,000원
기관의뢰 직접사용
고정형
건별
60,000원
1.1. 도입목적 : 기존 급속열처리장치 장비의 노후화로 인한 잦은 ramp교체, Control 오작동, Control computer 고장, chamber 오염으로 서비스가 불가하여 교체 도입된 장비.
1.2. 용도 및 활용분야 : Silicide annealing (Ni, Ti, Co) 용도로 사용.
(1) Hardware Qual.
-.Wafer Temperature monitoring using T/C
Normal operating on the basis of feature uniformity and repeatibility over 10 times of process in 6 inch chamber @(operating pressure: 1 Torr~ 100 Torr operating temperature: 300 ℃ ~ 1000 ℃
operating time: 60 S)
-.Temperature control fluctuation : ≤ ± 5 ℃
-.Temperature uniformity in 6 inch wafer : ≤ ± 5 ℃
-.Temperature repeatability:≤ ± 5 ℃
2.Process Qual.
-.Qualifying test progress on the basis of feature repeatibility over 10 times in 6 inch wafers on the base of feature.
(ISRC Rs (P-type) ≤ ± 5 % in wafer
ISRC Rs (P-type) ≤ ± 5 % in wafer to wafer
@(operating pressure: 10 Torr
operating temperature: 1000 ℃)