엘립소테크놀러지
Elli-SEUN
9년
주장비
분석
광학·전자 영상장비 > 광파발생/측정장비 > 타원계
2021-03-25
146,412,000원
기관의뢰 직접사용
고정형
시간별
30,000원
본 장비는 다양한 기판 위에 올려진 박막 재료에 대하여, 재료의 두께 및 광학상수 등을 측정할 수 있는 장비이다. 즉 재료의 두께, 굴절율, 흡수계수 측정을 통해 재료의 특성 파악에 최적화 장비이며, 0.1nm의 두께를 측정할 수 있는 고정밀 장비이다.
특히 재료마다 에너지에 따른 흡수도가 다를 수 있어, 다양한 재료의 특성 연구에 맞는 자외선영역에서 부터 근 적외선 측정 파장영역(240nm ~ 1,700nm)을 사용하여 다양한 공정에서의 물질 및 재료를 정밀하게 분석할 수 있다. 또한, 원재료를 만든 장치(기계)가 재료의 특성에 영향을 줄 수 있는 관계로, 재료의 특징을 분석하여, 원재료 제조 장치의 성능까지도 유추해 판단할 수 있는 장비이다.
1. Spectroscopic Ellipsometer Unit
2. Specification
- Tungsten halogen & Deuterium lamp (240 nm ~ 1,700 nm)
- Collimating lens system
- SMA type Fused silica optical fiber
- λ/4 Retarder
- Beam deviation ≤1 arc min
- Optic system
- Micro Stepping motor control
- Wobble free cubic polarizer
- Glan-Thompson Prism Polarizer
- Collimating fused silica optic system
- Beam Deviation : 3 arc minutes
3. Software
- GUI for user
- Operation & Analysis Software
- Job selection / Job Editor
- Measurement result / Status / Error history / Display
- Initialization, Calibration, Measurement.
- Automatic control & data collection
- Data analysis : (n, k, λ) & Thickness
- Simulation : (λ,Δ,ψ), (n, k, λ), etc.
- Multi layer modeling
4. Application
- Thickness of Dielectrics, Semiconductors, Polymers.
- Supporting Backside/Front side Reflections.
- Very Thin Films, Very Thick Films
- Variable Substrates
(Silicon, GaAs, Al, Steel, Glass, Al2O3, PC, PET, Polymer films etc.)
- Semiconductor Si, SiC, Ge, ONO, ZnO, PR, poly-Si, GaN, GaAs, Si3N4 etc.
- Display(incl. OLED) MgO, ITO, PR, Alq3 , CuPc, PVK, PAF, PEDT-PSS, NPB, SiO2