씨엔원
Atomic classic
10년
주장비
교육
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 원자층증착장비
2021-01-06
171,000,000원
기관의뢰
고정형
건별
100,000원
원자층을 한층 한층 쌓아 올려 막을 형성하여 얇은 막을 대면적에 고르게 증착하는 장비이며 다양한 프리커서를 이용하여 절연체의 유전율을 쉽게 변형 가능하고, 고품질의 원자단위의 박막 형성에 있어 유리한 장비이기 때문에 차세대 전자소자 제작을 위해 활용도가 매우 높은 장비임.
* 400 ℃ 이하의 공정 온도, 오존 발생기 연결
* Traveling Wave Type Thermal ALD Chamber
- Wafer Size : 6“ Standard
1-1. Process Module
- Chamber Material : SUS304
: 3 Sets 150℃ Canister with Carrier Gas
- Source Delivery : 4 Sets
- Max Stage Temperature : 400℃
- Chamber Body Temperature : 150℃
- Vacuum Gauge : Convectron Gauge, ATM S/W
- O3 Supply Line 구성
- Vacuum Gauge : Convectron Gauge, ATM S/W
: 1 Sets Room Temp. Canister
- Purge and Carrier Gas : Ar or N2
- Reactant : H2O Canister
- Pumping Line Hot Trap
1-2. Loadlock Module
- Chamber Material : Al with Anodized
- Wafer Handling : Automatic
- Isolation : Pneumatic Gate Val