대기하이텍
DKSPT-4-6
10년
주장비
교육
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 스퍼터
2021-01-06
95,260,000원
기관의뢰
고정형
건별
100,000원
고진공에서 Ar 플라즈마를 통해 높은 에너지의 입자를 생성하여 그 입자를 증착하고자 하는 타겟의 표면에 충돌시키고 그 충격으로 분리된 타겟의 원자를 기판 위에 증착시키는 장비.
단시간 내 고진공 조건에서 균일한 박막 증착과 정밀한 두께 제어가 가능하며 고 융점 금속, 합금 및 화합물의 반복적인 박막형성에 용이함.
* 장비 구성
- 저진공의 loadlock chamber, Rotary pump
- 고진공의 증착 chamber, Rotary pump, Turbo pump
- DC plasma powe, Sputter gun(6ea)
* 장비 사양
- Ultimate Vacuum Pressure: Less than 1 x 10-6 Torr
- Deposition Uniformity: ±3% in Φ100mm
- Working Pressure: 5~100mTorr
- Magnetron Sputter Gun : 6 ea
- DC Power supply Max output power: 1kW(1,000V, 1A)
- Substrate & Rotation Manipulator : 6“ Wafer Holding
- Pumping Speed : >1,100ℓ/sec for N2