ULVAC-PHI
PHI Quantera Ⅱ
10년
주장비
분석
화합물 전처리·분석장비 > 분광분석장비 > X-선광전자분광기
2020-11-27
708,462,730원
기관의뢰
고정형
기타
1원
XPS는 표면 분석에 있어서 가장 잘 알려져 있으며 널리 사용되는 방법으로 아인슈타인의 광전효과(photoelectric effect)를 기반으로 고에너지의 빛과 표면의 상호 작용에 의해 방출된 전자의 운동 에너지를 측정하여 분석합니다. 광원으로서 엑스선을 사용하여 분석 시료를 이루고 있는 원소의 핵심부 전자(core electron)를 방출시킨 후, 방출된 전자의 운동에너지를 측정하여 원소의 결합 에너지(binding energy)를 측정하고 분석하여 시료를 구성하고 있는 원소를 찾을 수 있으며, 화학적 천이(chemical shift)를 이용한 화학 결합 상태 등에 대한 정보를 얻을 수 있습니다.
Minimum X-ray Beam Size : ≤7.5 μm
X-ray Power(W) & Voltage
7.5 μm 0.8 W 15 kV
10 μm 1.25 W 15 kV
100 μm 100 W 20 kV-HP
Energy Resolution on PET : FWHM < 0.85 eV
Energy Resolution on Ag : FWHM < 0.48 eV
Mono-atomic and Cluster Ion Source