(주)테스
SQUARE
9년
주장비
생산
기계가공·시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비
2019-11-27
55,000,000원
직접사용
고정형
시간별
200,000원
TES사에서 제작한 single wafer type의 LPCVD장치로 6개의 chamber로 구성되어 있으며 poly Si 및 HTO막을 형성시킬 수 있도록 구성되어 있다. 일반적인 LPCVD장치가 furnace type인 것과 달리 single wafer type은 개별 wafer들을 control할 수 있는 장점이 있다.
- 본 장치는 Single wafer process 진행이 가능한 Multi-chamber system의 Process Module, Main Frame, 그리고 EFEM (Equipment Front End Module) 등으로 구성 (중고장비로 첨부 견적서 사양대로 “맥쿼리파이낸스“사에서 창고 보관 중)
- 6개의 독립적인 Single wafer type의 Chamber로 구성되어 있어, 각 Chamber별로 다른 특성의 증착막을 제조하는데 사용 가능
- Multi-chamber의 장점을 이용하여 연구용, 교육용, 기업 서비스 용도록 사용 가능
- HTO (High Temperature Oxide) 증착용 장비, Gas line 추가에 따라 Poly Si 증착 가능